職位目標(biāo):
主導(dǎo)下一代大尺寸、高均勻性等離子體諧振腔的研發(fā)與工程化,重點(diǎn)解決現(xiàn)有設(shè)備在擴(kuò)徑生長(zhǎng)(如直徑≥100mm)中的等離子體分布不均、功率耦合效率低、工藝穩(wěn)定性不足等核心問(wèn)題,推動(dòng)金剛石生長(zhǎng)工藝發(fā)展。
核心挑戰(zhàn)(需實(shí)際攻克的問(wèn)題):
- 大尺寸均勻性控制:如何在擴(kuò)大腔體尺寸時(shí)維持等離子體均勻。
- 高功率穩(wěn)定性:在10kW~15kW功率下優(yōu)化熱管理及腔體耐壓設(shè)計(jì),抑制微波擊穿和次生等離子體。
- 工藝與腔體協(xié)同優(yōu)化:將諧振腔設(shè)計(jì)與化學(xué)氣相沉積工藝深度結(jié)合,提升金剛石生長(zhǎng)速率與成品率。
崗位職責(zé):
- 負(fù)責(zé)MPCVD諧振腔的電磁仿真、結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及多物理場(chǎng)耦合分析(電磁-熱-流體),優(yōu)化TM模式激勵(lì)與電場(chǎng)分布。
- 主導(dǎo)諧振腔的工程實(shí)現(xiàn)。
- 搭建測(cè)試平臺(tái),完成冷熱態(tài)參數(shù)測(cè)量,對(duì)比仿真與實(shí)測(cè)數(shù)據(jù),迭代解決實(shí)際問(wèn)題。
- 與工藝團(tuán)隊(duì)協(xié)作,將腔體性能轉(zhuǎn)化為生長(zhǎng)結(jié)果,并支持自動(dòng)化腔體管理系統(tǒng)的技術(shù)升級(jí)。
任職要求(硬性條件):
- 本科及以上學(xué)歷,電磁場(chǎng)與微波技術(shù)、等離子體物理、材料工程等相關(guān)專業(yè)。
- 3年以上MPCVD或類似微波等離子體諧振腔實(shí)戰(zhàn)經(jīng)驗(yàn),具備從設(shè)計(jì)、仿真到測(cè)試、故障排查、設(shè)備量產(chǎn)的全流程項(xiàng)目案例。
- 熟練使用CST/HFSS/COMSOL進(jìn)行腔體仿真,能獨(dú)立分析等離子體與電磁場(chǎng)的相互作用。
- 熟悉高功率微波系統(tǒng)、真空工藝、冷卻設(shè)計(jì)等工程環(huán)節(jié)。