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1、開發(fā)半導體工藝流程和配套工藝參數(shù)，根據(jù)內(nèi)外部客戶需求設計整套工藝解決方案；
2、針對設備生產(chǎn)及客戶方生產(chǎn)中出現(xiàn)的問題，設計工藝問題排查定位方案，通過工藝方法定位設備問題；
3、通過工藝適應性測試手段，充分展示極限工藝性能，提出設備改善方向；
4、聯(lián)合國內(nèi)外半導體材料及設備供應商進行新材料、新產(chǎn)品的適應性開發(fā)。