崗位職責
1、工藝維護與監(jiān)控:
(1)負責日常光刻和顯影工藝的在線監(jiān)控,包括光刻膠涂布、軟烘、對準、曝光、曝光后烘烤(PEB)、顯影和硬烘等各個環(huán)節(jié)的穩(wěn)定性。
(2)分析并處理日常工藝異常,快速識別缺陷根源(如缺陷、CD偏差、套刻誤差等),并實施糾正措施,確保生產線持續(xù)穩(wěn)定運行。
(3)負責光刻膠、顯影液等關鍵耗材的評估、導入和管理。
2、工藝開發(fā)與優(yōu)化:
(1)參與新工藝、新材料的開發(fā)與導入(NPI),通過實驗設計優(yōu)化工藝參數(shù),以達成關鍵性能指標(KPIs),如關鍵尺寸、均勻性、套刻精度、缺陷率等。
(2) 開發(fā)和優(yōu)化先進的光刻技術,以支持新工藝、新樣品的研發(fā)和量產
3、設備協(xié)同與維護:
(1)光刻機、涂膠顯影機日常點檢、故障排查和性能驗證
(2)主導或參與設備裝機、調試和工藝驗收工作。
4、數(shù)據(jù)分析與良率提升:
(1) 運用統(tǒng)計過程控制(SPC)工具監(jiān)控工藝穩(wěn)定性,對工藝數(shù)據(jù)(CD, Overlay, Defect等)進行深度分析,撰寫異常報告和技術分析報告。
(2)與內外部資源共同分析和解決與光刻/顯影相關的良率問題,推動CIP項目
5、標準化與文檔化:
(1)編寫和更新標準操作程序、工藝規(guī)格文件和設備操作指導書。
(2)負責工藝知識的積累、傳承和團隊培訓。
任職要求
1、本科及以上學歷,微電子、電子工程、材料科學與工程、物理、化學化工等相關專業(yè)。
2、3年以上相關行業(yè)的光刻工藝相關經驗,熟悉完整的晶圓光刻、顯影工藝流程。
3、深刻理解光刻和顯影的物理化學原理,包括光刻膠特性、光學成像理論、顯影動力學等。
4、熟悉光刻機和涂膠顯影機的操作和基本原理,并熟練使用相關的量測設備。
5、數(shù)據(jù)分析能力優(yōu)秀,熟練使用辦公軟件和數(shù)據(jù)分析軟件(如JMP, MATLAB, SQL等)進行SPC和DOE分析。
6、責任心強、問題分析和解決能力突出,能承受一定工作壓力。
7、加分項:有量產線經驗者優(yōu)先,具備處理線上異常和提升良率的實戰(zhàn)能力;有半導體Fab光刻機操作經驗;具備一定的英語讀寫能力,能夠閱讀和理解英文技術文檔;熟悉SPC、FMEA、8D等質量管理工具和方法。