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湖南興晟新材料科技有限公司成立于2015年，2018年落戶株洲軌道交通智谷創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)園，是一家專業(yè)從事高溫、高純、耐腐蝕材料與制品研發(fā)及生產(chǎn)的高科技企業(yè)，是以中南大學李國棟教授為領(lǐng)銜的創(chuàng)新團隊扎根先進涂層及陶瓷基復合材料二十余載成果的轉(zhuǎn)化平臺。在國家863、973、重點研發(fā)計劃等項目的支撐下，在國內(nèi)率先開發(fā)出適合于規(guī)?；a(chǎn)的涂層制備技術(shù)與工藝裝備，掌握了CVD SiC涂層、TaC涂層及陶瓷基復合材料制造的核心技術(shù)，積累了30多項專利及核心技術(shù)，在首創(chuàng)了“雙梯度”涂層關(guān)鍵技術(shù)，打破了國際壟斷，成果已成功應(yīng)用于超高音速飛行器、某型號遠程炮彈、運載火箭、核反應(yīng)堆等關(guān)鍵領(lǐng)域。為國家重大工程、重大項目解決關(guān)鍵“卡脖子”材料難題，填補國內(nèi)空白，實現(xiàn)進口替代，做出了積極貢獻。半導體領(lǐng)域的材料純度要求高、技術(shù)壁壘高，進入難度大，核心材料全部依賴進口，半導體發(fā)展嚴重受制于人，產(chǎn)業(yè)安全無保障。李國棟教授以我國半導體供應(yīng)鏈安全為己任，決心將畢生積累成果進行產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)換。瞄準我國在半導體、LED、光伏、電子信息等行業(yè)的MOCVD裝備、單晶硅爐、PECVD爐、單晶SiC爐、單晶CaN爐及第三代半導體外延爐、氧化爐、離子注入機、刻蝕機等關(guān)鍵裝備對耐溫、耐腐、高純部件的重大需求，創(chuàng)立成果轉(zhuǎn)化平臺—湖南興晟公司，并擔任公司董事長、首席科學家。