1. 學(xué)歷專業(yè)：本科及以上學(xué)歷，高分子材料、化學(xué)工程、應(yīng)用化學(xué)、半導(dǎo)體材料、光固化等相關(guān)專業(yè)；碩士及以上學(xué)歷、有光刻膠研發(fā)相關(guān)實(shí)習(xí)或工作經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先，主導(dǎo)過(guò)量產(chǎn)級(jí)光刻膠開(kāi)發(fā)者優(yōu)先。
2. 工作經(jīng)驗(yàn)：1-3年及以上光刻膠相關(guān)研發(fā)經(jīng)驗(yàn)，熟悉光刻膠化學(xué)體系設(shè)計(jì)，了解丙烯酸酯/環(huán)氧樹(shù)脂/聚酰亞胺等基材、光致產(chǎn)酸劑（PAG）、添加劑等協(xié)同作用機(jī)理者優(yōu)先；有國(guó)內(nèi)外主流半導(dǎo)體光刻膠廠商研發(fā)經(jīng)歷者優(yōu)先。
3. 專業(yè)技能：熟悉光刻膠研發(fā)流程及實(shí)驗(yàn)操作規(guī)范，能獨(dú)立完成配方設(shè)計(jì)、實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證及數(shù)據(jù)整理分析；熟練操作光刻相關(guān)實(shí)驗(yàn)設(shè)備（光刻機(jī)、SEM、AFM、臺(tái)階儀等），了解設(shè)備基本維護(hù)原理；具備良好的理論基礎(chǔ)，熟悉光化學(xué)反應(yīng)機(jī)理及面板或半導(dǎo)體產(chǎn)線光刻工藝制程者優(yōu)先。
4. 能力素質(zhì)：具備較強(qiáng)的邏輯思維能力、動(dòng)手能力及問(wèn)題解決能力，工作嚴(yán)謹(jǐn)負(fù)責(zé)、積極主動(dòng)；具備良好的團(tuán)隊(duì)協(xié)作意識(shí)及溝通能力，能承受一定的工作壓力；具備一定韓語(yǔ)、日語(yǔ)能力優(yōu)先。