崗位職責(zé):
在光刻精密測(cè)量系統(tǒng)研發(fā)方向,負(fù)責(zé)光學(xué)系統(tǒng)物理光學(xué)模型建立與仿真分析,先進(jìn)光電測(cè)試系統(tǒng)精密標(biāo)定與光電測(cè)試設(shè)備開發(fā)。
崗位要求:
1)知名高校、科研院所取得博士學(xué)位不超過(guò)3年,應(yīng)屆畢業(yè)生優(yōu)先;
2)年齡一般不超過(guò)35周歲;
3)具有物理學(xué)、光學(xué)、光學(xué)工程等相關(guān)專業(yè)背景;
4)掌握光柵、干涉測(cè)量、偏振照明等理論,熟悉光學(xué)設(shè)計(jì)、算法和軟件開發(fā),具有光刻方向研究經(jīng)驗(yàn)者有限考慮;
5)具有較強(qiáng)的科研創(chuàng)新潛力和團(tuán)隊(duì)協(xié)作精神。